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行业知识

• 2023-08-22 10:01:33

  溅射镀膜工艺-低频交流辉光放电

  低频交流辉光放电 一般很少采用低频交流辉光放电进行溅射。在频率低于50kHz 的交流电压条件下，离子有足够的活动性，且有充分的时间在每个半周的时间内，在各个电极上建立直流辉光放电。这种放电称为低频交流辉光放电。这一放电基本上与直流辉光放电相同，只是两个电极交替地成为阴极和阳...

• 2023-08-23 10:01:38

  溅射镀膜工艺-射频辉光放电

  射频辉光放电 在一定气压下，当阴阳极间所加交流电压的频率增高到射频频率时，即可产生稳定的射频辉光放电。射频辉光放电有两个重要的特征:第一，在辉光放电空间产生的电子，获得了足够的能量，足以产生碰撞电离。因而，减少了放电对二次电子的依赖，并且降低了击穿电压。第二，射频电压能够...

• 2023-08-24 10:16:59

  溅射特性-溅射阈值

  溅射阙值 所谓溅射值是指使靶材原子发生溅射的人射离子所必须具有的最小能量。溅射闽值的测定十分困难，随着测量技术的进步，目前已能测出低于10-5原子/离子的溅射率。图 2-45是用不同能量的Ar+击各种金属元素靶材时得到的溅射率曲线。图 2-46 是不同种类的人射离子以不同能...

• 2023-08-16 11:08:48

  溅射镀膜工艺

  正常与异常辉光放电： 两电极之间维持辉光放电时，放电电压与电流之间的函数关系如图2-39 所示。在一定的电流密度范围内 (可为 2~3 个数量级)，放电电压维持不变。如前所述，这一区域称为正常辉光区。在此区域内,阴极的有效放电面积随电流增加而增大，从而使阴极有效区内电流密度保持恒...

• 2023-08-29 10:02:03

  溅射过程-靶材的溅射过程

  靶材的溅射过程 当入射离子在与靶材的碰撞过程中，将动量传递给靶材原子，使其获得的能量超过其结合能量，才可能使靶原子发生溅射。这是靶材在溅射时主要发生的一个过程。实际上，溅射过程十分复杂，当高能入射离子轰击固体表面时，还会产生如图 2-64 所示的许多效应。例如，入射离子可能...

• 2023-08-30 10:01:35

  溅射过程-沉积薄膜的纯度

  沉积薄膜的纯度: 为了提高淀积薄膜的纯度，必须尽量减少淀积到基片上杂质的量。这里所说的杂质主要指真空室的残余气体。因为，通常有约百分之几的溅射气体分子注人淀积薄膜中，特别在基片加偏压时。若真空室容积为 V.残余气体分压为 P。，氲气分压为 PAr，送人真空室的残余气体量为 ...

• 2023-08-31 10:02:59

  溅射过程-淀积过程中的污染

  淀积过程中的污染: 众所周知，在通人溅射气体之前，把真空室内的压强降低到高真空区内 (10-4Pa)是很必要的。因此，原有工作气体的分压极低即便如此，仍可存在许多污染源: 1.真空室壁和真空室中的其他零件可能会吸附气体、水汽和二氧化碳。由于辉光中电子和离子的轰击作用，这些气体...

• 2023-08-15 11:05:56

  溅射镀膜工艺-弧光放电区

  弧光放电区: 异常辉光放电时，在某些因素影响下，常有转变为弧光放电的危险。此时，极间电压陡降，电流突然增大，相当于极间短路。且放电集中在阴极的局部地区，致使电流密度过大而将阴极烧毁。同时，骤然增大的电流有损坏电源的危险。弧光放电在气相沉积中的应用，仍在进一步研究之中。