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行业知识

• 2022-07-07 10:01:34

  后置耦合光路设计

  要求有限距离1:1成像，物高6mm，数值孔经NA=0.4，相对孔径D/f’=1/2。传像束的数值孔经为NA=0.4，中继透镜的数值孔经至少要大于这个值，参考光纤通信中的耦接球透镜，采用两个参数完全相同的透镜组来实现耦合，整个透镜组实现等倍率成像。考虑到系统要求的大视场、大口...

• 2022-07-12 11:25:38

  热红外成像基础

  热红外成像通常是指3-5μm的中红外（MWIR）成像和8~12μm的远红外（LWIR）成像。在这些波段中，关注的是热源而不是可见光。热红外成像有许多不同应用，如非破坏性测试、红外照相机可以拍摄设备的过热点或者建筑物热量流失位置、在医学领域可测局部体表温度的差异、在快速查找核电厂冷...

• 2022-07-13 11:09:26

  杜瓦瓶器件、冷光阑和冷屏

  热成像系统观察热源时，为获得最大的灵敏度，多数热成像系统使用低温制冷的探测器，探测器工作在77K的液氮或更低的温度。如果这些探测器或红外焦平面阵列（Focal Plane Array，FPA）可以探测到除所观察景物以外的热能量，则灵敏度会降低。另外，如果非景物能量的幅度随视...

• 2022-07-19 11:59:47

  冷光阑效率

  如果探测器只能探测或记录来源于景物的能量，则称该红外系统具有100%的冷光阑效率，即由于100%冷光阑效率，探测器同时记录来自代表景物能量的光锥能量和来自低温冷却热挡板的能量。该挡板称为冷光阑（它被低温冷却），没有自身能量辐射。对于FPA上的每一个像素来说，如果探测到的只是...

• 2022-07-20 10:01:47

  紫外（UV）光学系统概述

  紫外光（UV）在紫外光谱、大气科学、安全、紫外成像检测技术、国防等方面有着重要的应用。特别在半导体工业中紫外光刻是一项重要的应用技术，主要应用之一是用于光刻技术中投影光学系统。即光刻投影光学系统把掩模图样的缩小像投影到涂有抗蚀剂（也称为光致抗蚀剂或光刻胶，是一种对光敏感的具...

• 2022-07-21 10:30:45

  紫外光学材料

  紫外光学系统与红外光学系统相似，在设计中的主要问题是寻找合适的材料。目前发现只有少量的光学材料可以使用，包括熔融石英（SiO2、熔融硅），几种氟化物（氟化钡、氟化钙和氟化锂）和蓝宝石（蓝宝石，在科学上是除红色以外的各色，包括无色透明刚玉的通称，化学成分为Al2O3，因其中含...

• 2022-07-26 10:06:04

  紫外光学材料-水晶

  水晶（Rock-crystal，矽石）属于石英“家族”中显晶质一类，化学成分为二氧化硅（SiO2），为透明的石英晶体，一般无色，透光范围为0.14~6μm，折射率为1.533~1.544。按其特征及工业用途分为压电水晶、光学水晶、熔炼水晶及工艺水晶等四种。

• 2022-07-27 10:11:45

  紫外光学材料-萤石

  萤石（Fluorite，氟石），化学成分为氟化钙（CaF2），透光范围0.123~9μm，折射率约为1.4。萤石中含有少量的稀土族元素（钇、铈），把萤石敲碎或摩擦生热时，稀土族元素受到刺激后，产生绿蓝色系列的萤光反应，故把此种矿石以萤石来命名。