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行业知识

• 2023-06-13 11:09:25

  热蒸发镀膜机理介绍

  真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是在真空室中，加热蒸发器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体(称为衬底或基片)表面，凝结形成固态薄膜的方法。由于真空蒸发法或真空蒸镀法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生，所以又称热蒸发法。采用这种方法制造...

• 2023-06-14 11:15:19

  真空蒸发的特点与蒸发过程

  一般说来，真空蒸发(除电子束蒸发外)与化学气相沉积、溅射镀膜等成膜方法相比较，有如下特点:设备比较简单、操作容易;制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制;成膜速率快、效率高，用掩模可以获得清晰图形;薄膜的生长机理比较单纯。这种方法的主要缺点是，不容易获得结晶结构的薄膜，...

• 2023-06-15 10:29:28

  饱和蒸气压

  在一定温度下，真空室内蒸发物质的蒸气在固体或液体平衡时所表现出的压力称为该物质的饱和蒸气压。此时蒸发物表面液相、气相处于动态平衡，即到达液相表面的分子全部粘接而不离开，与从液相到气相的分子数相等。物质的饱和蒸气压随温度的上升而增大，在一定温度下，各种物质的饱和蒸气压不相同，...

• 2023-06-20 10:35:57

  热蒸发镀膜工艺分类

  蒸发源是蒸发装置的关键部件，大多数金属材料都要求在1000~2000℃的高温下蒸发。因此，必须将蒸发材料加热到很高的蒸发温度。最常用的加热方式有:电阻法和电子束法。下面对两种加热方式的蒸发源进行分别讨论。 1. 电阻蒸发源。 采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状...

• 2023-06-21 10:40:38

  离子辅助沉积工艺介绍

  离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)是在镀膜过程中将常规的电子束蒸发技术与离子体电弧技术相结合，它是目前镀制优质光学薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段，由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后，将动能传递给薄膜分子...

• 2023-06-22 10:42:54

  霍尔离子源

  霍尔离子源的工作原理: 阴极灯丝两端通电，发热后溢出电子。电子在电场作用下向阳极运动。磁钢是永久磁铁，沿中心向上发散形成锥形磁场。在阳极表面，磁力线与电场线近似垂直交叉。因因此，向阳极前进的电子，受洛仑磁力作用(霍尔源电势的起源)，遵循左手定则，会在电磁场中做螺旋运动，与工...

• 2023-06-27 10:53:35

  考夫曼离子源

  考夫曼离子源的工作原理如图2-23所示。一般由放电室、离子束引出栅以及中和灯丝三部分组成。 放电室内阴极由钨丝制成，阴极受热溢出电子。阳极与阴极之间有电场，电场会加速电子。与进入放电室中的工作气体发生碰撞，使其电离，形成等离子体。 屏栅上加正电压，屏蔽放电室内电...

• 2023-06-28 11:09:41

  射频离子源

  射频离子源的工作原理图如图2-25所示。工作气体通过一个专门设计的气体绝缘器进人石英放电室，以1356MHz的射频功率通过电感合进入放电室离化工作气体，形成等离子体。等离子体中的正离子，在通过三层栅网时，先后经历加速和减速两个过程，被成功聚焦加速，形成正离子束。 中和器...